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EDI超纯水设备

EDI超纯水设备

 详情说明

东莞绿洲水处理设备工程秒速赛车EDI

运行 操作 维护

说明书

 

 

 

 

 

 

 

 

 

东莞绿洲水处理设备秒速赛车

 

 

 

人身安全注意事项

电气

系统要使用隔离电源变压器。

EDI 及就地控制盘是带电的,因此在进行 EDI 设备控制盘内部操作时,应 保证系统电器是处于关闭的位置。

电气使用应有以下保证:

1、定期检查各个接线端子的接线,保证接线牢靠稳固。

2、修复或更换性能不好的电器元件。

3、经常检查电控箱密封性能,保证外部水滴不被进入。

4、处理电器故障或更换电器元件时,要由专业电气人员进行。

5、在系统工作状态下,禁止拆卸电源线。

机械

机械、工具使用应有以下保证:

由于 EDI MX-XXX 系列膜块为带电组件,有可能会发生触电危险,因此 不可将例如工具、螺栓、螺母等金属杂物放置在 EDI 膜块上面。

非专业维护人员不得调节膜块两端的紧固螺栓。

若有发生膜块渗水或泄漏情况时,应及时停止系统运行,并通知专业维护人员进行检查处理。

本装置任何时候都不能由未经培训或无操作经验的人员操作。除非仔细阅读并完全理解本手册内容及经过了相关培训,否则不能操作该 EDI 设备。对于不符合本手册要求的操作人员造成设备损坏, 本公司不承担任何责任。

   

 

 

一、 EDI的基本概述。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。3

二、 EDI的技术与基础系统设计。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。4

2.1 EDI进水条件....................................4

2.2 基础系统设计 ..................................4

2.3 系统设计考虑的其他因素.........................7

三、 EDI模块的操作、再生及清洗。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。7

3.1 EDI设备的操作...................................7

3.2 设备的化学清洗及再生............................9

l 颗粒/胶体污堵....................................10

l 无机物污堵.......................................10

l 有机物污堵.......................................11

l 微生物污堵.......................................11

四、 EDI系统运行中常见故障和处理........................22

  

 

 

 

 

 

一、 EDI的基本概述

EDI在传统的水处理系统中可替代现有的混床,它能够连续稳定地制取高纯度的水。EDI的优点在于不用化学药剂进行再生,因而不需要化学再生药剂贮存罐及相应的中和池,而且无须对有害的化学物废水进行收集、贮存及处理,结果使用 EDI后,大大的简化了系统。

RO 的应用降低了对大型设备场地占用的要求,而EDI的技术的应用则完全地符合了这一点。由于EDI系统可以依据现场实际情况进行适配设计组合,保证设备厂房间内无高罐(混床)存在。在要求成套设备能迅速地安装起来并以投入运行时,采用膜法系统的设备在这方面有着不可忽略的优势。

还有一个特点是,EDI 排出的浓水中仅含有进水中的杂质成分,通常这种水的水质比预处理系统的进水水质要好,故浓水可以考虑直接地回收送至 RO的原水入水口, 这样就有效地消除了对废水的排放。相反,混床的再生是一个一次性的过程,由于使用化学药剂再生离子交换树脂床,其废液中含有比一般ED浓水高3-4 倍的废弃离子,这类废液通常不回收到预处理系统中,而是排放于废水中和池内。

RO-EDI 的运行过程是连续的,其生产的水质稳定,它不象混床在每一个再生周期的开始及结束阶段因离子的泄漏而影响出水水质。这种连续运行的方式也简化了操作,无需再设置考虑因再生工作需要调整相关设备的操作人员及操作程序。

 

归纳为以下几点

l 工作连续制造纯水,无间断运行

l 在线再生,无须加盐系统

l 不需要酸、碱化学试剂对树脂再生

l 回收率高,废水利于循环再用

l 出水水质稳定

l 容易实现膜块组合达到制水能力要求

l 运行费用低,符合环保要求

 

EDI 的应用领域

⊙电厂化学水处理

⊙电子、半导体行业超纯水

⊙精密机械行业超纯水

⊙制药工业工艺用水

⊙实验室研究用超纯水

⊙精细化工、精尖学科用水

⊙其他行业所需的高纯水制备

 

二、 EDI的技术与基础系统设计

2.1 EDI 进水条件

水源:反渗透 RO 产水,电导率 1-20μs/cm,电导率≤50μs/cm(NaCl)

PH 值:5。5—9。5(PH7。0—8。0 之间 EDI 可有电阻率性能)

温度:15℃--35℃,(EDI 温度在 25℃)

进水压力(DIN):0.2—0.4MPa

浓水进水压力(CIN):比 DIN 端压力低 0.05—0.1MPa(要)

产水压力(DOUT):0.05—0.25MPa

浓水出水压力(  COUT):比 DOUT 端压力低 0.05—0.1MPa(要)

进水硬度:<0.5ppm

进水有机物:TOC<0.5ppm

进水氧化剂:Cl2 (活性)<0.03ppm,O3(臭氧)<0.02ppm,

HO.(羟基氧)<0.02ppm

进水重金属离子:Fe、Mn、变价性金属离子<0.01ppm

进水硅:SiO20.5ppm(反渗透 RO 产水典型范围是 50-150ppb)

进水总 CO2:<5ppm

进水颗粒度:<1μm

 

2.2 基础系统设计

要保证一个良好的EDI系统设备运行稳定,出水品量优良,合理的整体水处理系统设计是不可忽略的。

系统设计因素包括:

l EDI 进水预处理系统(保证符合进水条件)

l 系统的智能保护和控制

l 设备容易操作和数据读判

l 系统膜块构成要求少

l 系统安全性设计

 

2.2.1  EDI进水预处理系统

目前围绕应用EDI系统的预处理解决方案层出不穷,下面是本次系统处理方案。

二级 RO 工艺(主要组成)

         阻垢剂加药装置  

                       

原水箱原水泵介质过滤器活性炭过滤器精密过滤器高压泵

 

反渗透装置中间水箱二级高压泵二级反渗透装置中间水箱

↑      ↑                           ↑

PH调节装置              清洗装置

增压泵EDI纯水箱

 

工艺特点:

二级 RO:通过二级 RO 方案技术处理,可以完全达到EDI设备进水条件的各项要求。

EDI 系统可以稳定且长期运行。

一个良好的  EDI系统的构成,主要就是其前处理部分在设计中就要考虑到尽可能满足上面所提到的EDI进水条件,推荐的两个方案中所配置的主要设备其功能如下:

介质过滤器:去除水中的颗粒、悬浮物、胶体等杂质,使出水的浊度小于 1,SDI≤4。保证 RO 不被这些杂质污堵。

活性炭过滤器:去除水中的活性余氯和一些氧化物、有机物等,保护RO反渗透膜、离子交换树脂和离子膜不被氧化降解。

阻垢剂加药装置:去除水中部分的 Ca、Mg 离子,降低水中的硬度,防止 RO、EDI 设备里的膜元件结垢而造成污堵,导致元件失效。

2。2。2 系统的智能保护和控制

除了合理的 EDI 整体组合设计外,良好的电气控制也是不可忽略的,由于 EDI 膜块的主要工作是靠电场的作用来实现离子交换和树脂再生,因而设计中要考虑对输入膜块的电流、电压有一个限制,并且能被系统控制器关断。为了保护EDI膜块,输入电源应在EDI 膜块的任何水流低于设定值时自动关断,同时也要考虑在产水电阻率低于工艺要求时,产水阀能自动切换至再生状态,并有警示灯显示。系统设计中要有电导率/电阻率表配套。

2.2.3 系统设计中应使设备容易操作和仪表的读判

为了系统的操作方便、读表容易,在设计中要考虑各种操作阀门、仪表配置在便于操作的一面,管路配置连接应避免不必要的冗余转角,各个流量计、压力表要有明确标示其功能及设定数据。导电度表、PLC、配电柜等控制元件,应组合在一个控制柜内,且控制柜的面板上的操作旋扭/按扭的位置也应设置在容易操作和观察的地方。

2。2。4系统安全性设计

EDI膜块外部配有电源端子接线盒,因此在系统设计中要考虑系统的绝缘,保证操作人员的人身安全。所有的膜块应固定在金属机架上,且与机架有良好的接触,机架要设计有安全接地装置

由于水具有导电性能,电流能通过水导通到机架,因此,设计中还要在各个进水口及出水口设计有“T”形接地连接点,通过接地线固定连接到机架。

模块的泄漏是不允许的,因此,一旦发生这种情形,要随时停机检查泄漏原因。通常模块泄漏主要是因模块两端的紧固螺栓有松动而引起的,可以通过检查和重新紧固螺栓得以解决泄漏。

螺栓的扭矩对于维持高产品水电阻率和防止泄漏是非常重要的,如果模块松动除了造成泄漏,还会在浓水室引起盐份结晶形成堵塞。防止泄漏是使用者的责任。下面的情况之一应该重新检查和调整螺栓的扭矩:

1、当模块运输到达目的地后;

2、当模块已经组合安装在单元设备机架上后;

3、当单元设备货运到达现场后;

4、用户在现场调试操作前;

5、当供水压力被确认和应用后;

6、在单元设备运行的第一个月内每周进行检查,直至内部的离子膜组件已经完全被压紧;

7、在产品水品质有下降的任何时候;

所有的模块在制造厂都已经作过调整和紧固。在安装后和模块操作之前,应按照技术手册中螺栓紧固示意图进行紧固。注意螺栓的调整、紧固顺序是非常重要的,合理的紧固顺序可以避免离子膜组件扭曲变形并确保内部压力水的一致性。

2.3 系统设计考虑的其他因素

1、考虑预留清洗系统的接口

2、考虑预留膜块再生时能够构建自循环管路

3、考虑系统的旁路装置

4、浓水排放管须独立设置且不能有背压情况存在,要求避免与其他管路共管。

5、EDI 系统在连续运行状态下能发挥好的效力,如果终端用户的使用工况不能满足此要求,应该考虑增设自循环装置,减少系统设备间歇性停机次数。

三、 EDI设备的操作、再生及清洗

3.1 EDI设备的操作

一台完整的EDI设备应该有以下部件构成

l EDI 膜块

l 整流电源(移相调控器)

l 流量计

l 电阻率仪

l 压力表

l PLC 控制箱

l 电源控制仪表

l 连接管路、阀门

l 接地保护连接线

 

3.1.1 设备投运前的准备工作

1、确认进入EDI的水质满足、符合进水条

2、全面检查EDI膜块两端板的紧固螺栓是否全部锁紧

3、检查LPC就地控制盘电源是否通电

4、检查膜块的直流电源接线是否正确

5、检查确认输送泵的电机运转方向是否正确

6、检查各个仪表工作电源是否符合设备要求

7、检查各个仪表工作范围设定是否符合现场设定要求

8、调整、设定各流量限位开关低值(产水、浓水进水、浓水排水)

9、设定进水压力

10 浓水进水压力

11 设定浓水排水压力

12 设定产水压力

13 检查各个调节阀门是否处于开启状态(初期先调节开启度全程的 1/2)

3。1。2 设备的投运

设备初期运行

调节产水、浓水进水、浓水排水之流量限位保护开关至设定值并固定锁紧,在 PLC控制面板上将增压泵开关调到手动档,启动增压泵向膜块注水至产水流量计、浓水给水、浓水排水流量计有水通过,调节产水阀门、浓水进水阀门、浓水排水阀门,使其达到设定值。随后将EDI膜块开关旋至自动档,大约 5-10 秒后自动通电运行。

EDI 电流设定为3-4A。膜块启动后,电流值会逐渐上升至设定值。当系统进入稳定运行状态后,开始记录设备的各项运行数据。数据的记录通常是每隔2小时记录一次。

EDI系统为高压设备,足以对人身安全造成伤害,因此在整流器工作时,不要触碰它,并且确保在工作现场配备了必要的安全措施。

设备的正常运行

设备调试好后,就可以转入正常的运行。先将设备按照手动停机方法的第 1、2 条进行设备停运,之后将PLC面板上的增压泵开关调到自动档,EDI膜块的开关选择转至自动档,系统便进入自动运行状态。

提示:

系统进入自动运行的条件要是满足:

1、给水箱液位开关处于中、高液位以上

2、产水箱液位处于中、低液位以下

3、产水、浓水进水、浓水排水流量在设定限位值以上

设备的停机

手动运行时停机

1、在 PLC 面板上将 EDI 膜块的选择开关切换至“停止”的位置

2、将增压泵的选择开关切换至“停止”的位置

3、关闭增压泵进水阀门、产水阀门、浓水排放阀门

自动运行时停机

设备正常运行时在达到水箱设定液位值后会自动停止运行。

为了保证EDI的安全运行,系统在控制方面进行以下几种自动连锁控制,当不满足以下其中条件之一时,设备也会自动停止运行。

1、浓水进水流量、浓水排水流量或产水流量之一低于各自的设定值时,限位开关会自动动作。

2、给水箱液位低或产水箱液位高时,液位开关会自动动作。

3、没有变压器工作的反馈信号

4、增压泵过载

※  提示:EDI 整流设备停运时,不得有RO(或相同水质的水)通过设备,否则设备在下次启运时需要较长的时间进行再生。

设备长时间的停运

如果 EDI 系统停运时间超过 3 天时,就应做好长时间停运保护,以免EDI 内部微生物孳生。

1、切断 PLC 控制柜内的所有电源开关。

2、允许 EDI 管路系统遗留水排空,避免其间存有死水。

3、关闭所有系统的阀门。

4、长时间停运后的重新启动,膜块可能需要消毒清洗或再生。

3.2 设备的化学清洗及再生

虽然EDI膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会,但是着 设备运行时间的延展,EDI膜块内部水道还是有可能产生阻塞,这主要是EDI进水中含有较多的溶质,在浓水室中形成盐的沉淀。如果进水中含有大量的钙镁离子(硬度超过0.8ppm)、CO2 和较高的 PH 值,将会加快沉淀的速度。遇到这种情况,我们可以通过化学清洗的方法对EDI膜块进行清洗,使之恢复到原来的技术特性。

通常判断 EDI 膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定:

1、在进水温度、流量不变的情况下,进水侧与产水侧的压差比原始数据升高 45%。

2、在进水温度、流量不变的情况下,浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。

3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下,产水水质(电阻率)明显下降。

4、在进水温度、流量不变的情况下,浓水排水流量下降35%。

膜块堵塞的原因主要有下面几种形式:

1、颗粒/胶体污堵

2、无机物污堵

3、有机物污堵

4、微生物污堵

EDI 清洗注意:在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程,切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗。

l 颗粒/胶体污堵

进水颗粒度≥5μm 时会造成进水流道堵塞,引起膜块内部水流分布不均匀,从而导致 膜块整体性能降低。如果EDI膜块的进水不是直接由 RO 产水端进入 EDI 膜块,而是通过RO产水箱经过增压泵供水,建议在进入EDI膜块前端增设保安过滤器(≤0.2μm)。 在组装EDI设备时,所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。

l 无机物污堵

如果 EDI 进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时,将导致浓水室和阴极室的结垢,生成盐类物质析出沉淀,通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。即便这类物质的浓度很小,接触时间也很短,但随着运行时间的累加,仍有发生结垢的可能,这种硬度结垢很容易通过酸洗去除。按照方案1中的方法,使用低PH溶液在系统内部循环清洗,可以去除浓水室和阴极室的结垢。

当进水中的铁和锰含量高,或者高TDS的水以外进入到EDI膜块时,也会使淡水室的离子交换树脂或者浓水室形成无几物污堵。可以采用方案2进行清洗。

l 有机物污堵

当进水有机污染物TOC或TEA含量超过设计标准时,淡水室的离子交换树脂和离子膜会发生有机污堵。可以采用方案3的方法,用高PH值的药水对淡水室及浓水室循环清洗可以将有机分子清除出离子交换树脂对这种污堵进行清洗。

l 微生物污堵

当设备运行环境适于微生物生长,或者进水中存在较多的细菌和藻类的时候,EDI膜块和系统也会发生微生物污堵。可以采用方案3、4中的方法用高PH盐水进行清洗。如果微生物污堵情形比较严重时,可以采用方案5进行清洗。如果同时伴有无机物污堵, 可以按照方案6加入酸洗步骤。

对于极严重的微生物污堵,可以采用方案7或8以高PH 药剂清洗。

下面是清洗方案选择表:

问题/方案

1

2

3

4

5

6

7

8

浓水室结垢

 

 

 

 

 

 

 

淡水室结垢

 

 

 

 

 

 

 

有机物污堵

 

 

 

 

 

 

 

有机物污堵和结垢

 

 

 

 

 

 

 

微生物污堵

 

 

 

 

 

 

 

微生物污堵和结垢

 

 

 

 

 

 

 

严重的微生物污堵

 

 

 

 

 

 

 

严重的微生物污堵和结垢

 

 

 

 

 

 

 

极严重的微生物污堵

 

 

 

 

 

 

 

极严重的微生物污堵和结垢

 

 

 

 

 

 

 

各清洗方案的主要操作步骤

步骤

1

2

3

4

5

6

7

8

步骤一

浓水室酸洗

酸洗

碱洗

酸洗

盐水清洗

酸洗

盐水清洗

酸洗

步骤二

冲洗

冲洗

冲洗

碱洗

冲洗

盐水清洗

冲洗

盐水清洗

步骤三

 

再生

再生

冲洗

消毒

冲洗

消毒

冲洗

步骤四

 

 

 

再生

盐水清洗

消毒

碱洗

消毒

步骤五

 

 

 

 

冲洗

盐水清洗

冲洗

碱洗

步骤六

 

 

 

 

再生

冲洗

再生

冲洗

步骤七

 

 

 

 

 

再生

 

再生

各清洗方法时间

清洗方法

时间(分)

备注

酸洗

30-50

 

碱洗

30-50

 

盐水清洗

35-60

 

消毒

25-40

 

冲洗

≥50

 

再生

≥120

根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标

单个模块清洗时药液配用量

型号

药液配用量(升)

备注

MX-50

50

1、酸洗温度 15-25℃

2、碱洗温度 25-30℃

3、配药液用水要是RO产水或高于RO产水的去离子水

MX-100

80

MX-200

110

MX-300

150

对于膜块数量大于 1 块时,按表中配液的数量乘以膜块数量。

清洗用化学药品规格

所有化学药品要使用推荐的等级或高于推荐的等级

药品名称

推荐等级

备注

盐酸(HCl)

化学纯 或 试剂级

 

 

氢氧化钠(NaOH)

化学纯 或 试剂级

液态:50%w/w

氯化钠(NaCl)

食品级、化学纯 或 试剂级

食品级≥99。8%

过氧化氢(H2O2

化学纯

 

30%

过氧乙酸(CH3COOOH)

化学纯

 

安全注意事项

1、在配置清洗药液时,要穿戴好防护服、防护眼镜和防护手套。

2、需要清洗的设备管路要是与其他连接设备的连接管路完全隔离的。

3、需要清洗的设备其电源要是完全切断并有“正在操作,不得送电”的安全警示。

4、整个清洗过程中清洗的工作压力不能超过 0.15MPa。

 

清洗设备组件

1、清洗循环泵(耐腐蚀泵)

2、清洗水箱(PP)

3、耐腐蚀清洗软管(与清洗泵适配)

4、耐腐蚀阀门(UPVC)

5、耐腐蚀压力表

6、过滤器(≤1μm)

工具:pH 试纸(广泛);温度计;计时表

清洗方案

清洗方案1

浓水室结垢清洗

1、记录清洗前所有数据。

2、分离EDI设备与其他设备的连接管路

3、连接清洗装置,使清洗泵通过浓水管路进入EDI膜块再回到清洗水箱,浓水进、出水阀开启,关闭EDI淡水进水阀和产水阀。

4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。

5、启动清洗泵,调节浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(酸洗步骤)。(参见附表)

6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

7、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

8、打开EDI进水阀和产水阀,同时对两个水室进行冲洗。

9、检测浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

10、各个阀门,恢复原始各设计流量数据。

11、恢复 EDI 各个管路与其他系统的连接。

12、开启 PLC 控制柜电源,向 EDI 膜块送电,转入正常运行,并作好初次运行的数据记录。软化水设备。

 

清洗方案2

淡水室结垢清洗

1、记录清洗前所有数据。

2、分离EDI设备与其他设备的连接管路

3、连接清洗装置,使清洗泵通过进水管路分别进入EDI膜块的淡水室和浓水室,再回到清洗水箱,开启所有的进出水阀门。

4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。

5、启动清洗泵,分别调节浓水、进水阀,以规定的流量循环清洗(酸洗步骤)。(参见附表)

6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

7、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

8、分别检测淡水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

9、调节各个阀门,恢复原始各设计流量数据。

10、停机,恢复EDI各个管路与其他系统的连接。

11、开启PLC控制柜电源,向EDI膜块送电,进行再生(再生步骤),直至电阻率达到出水要求为止。

12、转入正常运行,并作好初次运行的数据记录。

 

清洗方案 3

有机物污堵清洗

1、记录清洗前所有数据。

2、分离EDI设备与其他设备的连接管路

3、连接清洗装置,使清洗泵通过进水管路分别进入EDI膜块的淡水室和浓水室,再回到清洗水箱,开启所有的进出水阀门。

4、在清洗水箱配置1%浓度的氢氧化钠(NaOH)+2%盐(NaCl)的清洗液。

5、启动清洗泵,分别调节浓水、进水阀,以规定的流量循环清洗(碱洗步骤)。(参见附表)

6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

7、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

8、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

9、调节各个阀门,恢复原始各设计流量数据。

10、停机,恢复EDI各个管路与其他系统的连接。

11、开启PLC控制柜电源,向EDI膜块送电,进行再生(再生步骤),直至电阻率达到出水要求为止。

12、转入正常运行,并作好初次运行的数据记录。

 

清洗方案 4

有机物污堵和结垢

1、记录清洗前所有数据。

2、分离EDI设备与其他设备的连接管路

3、连接清洗装置,使清洗泵通过进水管路分别进入EDI膜块的淡水室和浓水室,再回到清洗水箱,开启所有的进出水阀门。

4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。

5、启动清洗泵,分别调节浓水、进水阀,以规定的流量循环清洗(酸洗步骤)。参见附表)

6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

7、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

8、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

9、在清洗水箱配置1%浓度的氢氧化钠(NaOH)+2%盐(NaCl)的清洗液。

10、启动清洗泵,分别调节浓水、进水阀,以规定的流量循环清洗(碱洗步骤)。(参见附表)

11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

12、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

13、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

14、调节各个阀门,恢复原始各设计流量数据。

15、停机,恢复EDI各个管路与其他系统的连接。

16、开启PLC控制柜电源,向EDI膜块送电,进行再生(再生步骤),直至电阻率达到出水要求为止。

17、转入正常运行,并作好初次运行的数据记录。

 

微生物污堵可采用方案 3 进行

微生物污堵和结垢可饿采用方案 4 进行

 

清洗放案 5

严重的微生物污堵

1、记录清洗前所有数据。

2、分离EDI设备与其他设备的连接管路

3、连接清洗装置,使清洗泵通过进水管路进入EDI膜块的淡水室、 浓水室,再回到清洗水箱,开启所有的进出水阀门。

4、在清洗水箱配置2%浓度的盐(NaCl)清洗液。

5、启动清洗泵,调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(盐洗步骤)。(参见附表)

6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离产水、浓水排水阀至地沟。

7、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

8、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

9、在清洗水箱配置 0。04%浓度的过氧乙酸(CH3COOOH)+0。2%的过氧化氢(H2O2)清洗液。

10、启动清洗泵,分别调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(消毒步骤)。(参见附表)

11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

12、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

13、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

14、在清洗水箱配置 2%浓度的盐(NaCl)清洗液。

15、启动清洗泵,调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(盐洗步骤)。(参见附表)

16、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离产水、浓水排水阀至地沟。

17、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

18、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

19、调节各个阀门,恢复原始各设计流量数据。

20、停机,恢复EDI各个管路与其他系统的连接。

21、开启PLC控制柜电源,向EDI膜块送电,进行再生(再生步骤),直至电阻率达到出水要求为止。

22、转入正常运行,并作好初次运行的数据记录。

 

清洗方案 6

严重的微生物污堵和结垢

1、记录清洗前所有数据。

2、分离EDI设备与其他设备的连接管路

3、连接清洗装置,使清洗泵通过进水管路进入EDI膜块的淡水室、浓水室,再回到清洗水箱,开启所有的进出水阀门。

4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。

5、启动清洗泵,分别调节浓水、进水阀,以规定的流量循环清洗(酸洗步骤)。(参见附表)

6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

7、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

8、分别检测淡水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

9、在清洗水箱配置2%浓度的盐(NaCl)清洗液。

10、启动清洗泵,调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(盐洗步骤)。(参见附表)

11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离产水、浓水排水阀至地沟。

12、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

13、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

14、在清洗水箱配置0.04%浓度的过氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的过氧化氢(H2O2)清洗

液。

15、启动清洗泵,分别调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(消毒步骤)。(参见附表)

16、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

17、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

18、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

19、在清洗水箱配置2%浓度的盐(NaCl)清洗液。

20、启动清洗泵,调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(盐洗步骤)。(参见附表)

21、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离产水、浓水排水阀至地沟。

22、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

23、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

24、调节各个阀门,恢复原始各设计流量数据。

25、停机,恢复EDI各个管路与其他系统的连接。

26、开启PLC控制柜电源,向EDI膜块送电,进行再生(再生步骤),直至电阻率达到出水要求为止。

27、转入正常运行,并作好初次运行的数据记录。

 

清洗方案 7

极严重的微生物污堵

1、记录清洗前所有数据。

2、分离EDI设备与其他设备的连接管路

3、连接清洗装置,使清洗泵通过进水管路进入EDI膜块的淡水室、浓水室,再回到清洗水箱,开启所有的进出水阀门。

4、在清洗水箱配置2%浓度的盐(NaCl)清洗液。

5、启动清洗泵,调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(盐洗步骤)。(参见附表)

6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离产水、浓水排水阀至地沟。

7、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

8、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

9、在清洗水箱配置0.04%浓度的过氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的过氧化氢(H2O2)清洗

液。

10、启动清洗泵,分别调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(消毒步骤)。(参见附表)

11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

12、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

13、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

14、在清洗水箱配置1%浓度的氢氧化钠(NaOH)+2%盐(NaCl)的清洗液。

15、启动清洗泵,分别调节浓水、进水阀,以规定的流量循环清洗(碱洗步骤)。(参见附表)

16、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

17、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

18、分别检测淡水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

19、调节各个阀门,恢复原始各设计流量数据。

20、停机,恢复EDI各个管路与其他系统的连接。

21、开启PLC控制柜电源,向EDI膜块送电,进行再生(再生步骤),直至电阻率达到出水要求为止。

22、转入正常运行,并作好初次运行的数据记录。

 

清洗放案 8

极严重的微生物污堵和结垢

1、记录清洗前所有数据。

2、分离EDI设备与其他设备的连接管路

3、连接清洗装置,使清洗泵通过进水管路进入EDI膜块的淡水室、浓水室,再回到清洗水箱,开启所有的进出水阀门。

4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。

5、启动清洗泵,分别调节浓水、进水阀,以规定的流量循环清洗(酸洗步骤)。(参见附表)

6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

7、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

8、分别检测淡水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

9、在清洗水箱配置2%浓度的盐(NaCl)清洗液。

10、启动清洗泵,调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(盐洗步骤)。(参见附表)

11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离产水、浓水排水阀至地沟。

12、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

13、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

14、在清洗水箱配置0。04%浓度的过氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的过氧化氢(H2O2)清洗液。

15、启动清洗泵,分别调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(消毒步骤)。(参见附表)

16、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟。

17、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

18、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

19、在清洗水箱配置1%浓度的氢氧化钠(NaOH)+2%盐(NaCl)的清洗液。

20、启动清洗泵,调节淡水、浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(碱洗步骤)。(参见附表)

21、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离产水、浓水排水阀至地沟。

22、向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤)。

23、分别检测产水、浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近。

24、调节各个阀门,恢复原始各设计流量数据。

25、停机,恢复EDI各个管路与其他系统的连接。

26、开启PLC控制柜电源,向EDI膜块送电,进行再生(再生步骤),直至电阻率达到出水要求为止。

27、转入正常运行,并作好初次运行的数据记录。

 

 

 

附表

模块型号

循环清洗流量(m3/h)

MX-50

0.2m3/h

MX-100

0。5m3/h

MX-200

1m3/h

MX-300

1.5m3/h

EDI模块的再生

EDI 膜块在清洗完成后,需要对其进行再生。

再生的步骤:

一、标准

1、确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。

2、使系统构建成一个闭路自循环管路。

3、按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。

4、给EDI送电,调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流(不能超过4A)。

5、直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cm

提示:膜块的再生是一个比较长的时间,有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。

 

二、特别情况

1、对于在系统中无法构建系自循环管路系统可以按照下面的步骤进行再生

2、确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。

3、按照系统正常运行流量的百分之70%调节各个流量阀门。

4、各个压力及压力差按照操作规定进行调节。

5、给EDI送电,调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流(不能超过4A)。

6、直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cm

提示:膜块的再生是一个比较长的时间,有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。

 

 

四、  EDI系统运行中常见故障和处理

下表是 EDI 膜块在运行过程中遇到的故障和排除方法,如按照此表操作仍不能解决

问题,请与本公司联系。

问题

可能存在的原因

解决方法

膜块漏水

膜块在运输、移动或者运行一段时间后

按照端板螺栓紧固要求重新进行紧固

膜块接口处漏水

膜块适配器松动

紧固适配器

检查垫片

产水电阻率低

电源无电

电极接头松动

电流设置不正确

不符合进水条件

一个或某个膜块无电

 

阀门关闭

流量开关设置

进水压力低或压差不对

流量调节错误

膜块污堵或结垢

 

内部流道有微量渗透

检查、送电

检查重新紧固

复测进水实际电导率,重新调整工作电流

检查进水品质,尤其是DTS、Cl2、CO2 等

检查所有的变压器输出是否正确,紧固接线螺丝

检查确认阀门是否开启

检查调校开关设置位置

检查原因重新调整

重新调整

判断污堵或结垢原因,采用相应清洗方案进行化学清洗

重新紧固两端板紧固螺栓

产水流量低

淡水室污堵

 

进水压力低

进水流量太低

进水温度太低

检查、判断污堵原因,采用相应清洗方案进行化学清洗

增加进水流速

调整进水流量

注意进水温度(≥10℃)

没有浓水或浓水流量偏低

进、出浓水阀没有设置好

浓水室污堵或结垢

调节进、出浓水阀增加流量

检查、判断污堵或结垢原因,采用相应的清洗方案进行化学清洗

膜块逸出气体太多

浓水排放管路堵塞或者有背压

电流设定过高

排除堵塞或背压

调整降低电流

产水的pH值过 高或过低

电流设定太高

调整降低电流

膜块电流过大

进水电导率太高

膜块缺水

检查RO产水的TDS

检查各阀门是否开启,若已经开启仍没有水,应即时切断电源,查找原因

 

 


EDI运行调试记录表

设备设计能力(l/h)                                                                                 记录日期:

内容

1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

进水pH值

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

进水硬度(CaCO3计)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

进水温度℃

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

进水电导率(μs/cm)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

膜堆直流电流(DCA)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

淡水进水流量(l/h)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

淡水进水压力(MPa)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

浓水进水流量(l/h)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

浓水进水压力(MPa)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

浓水排放流量(l/h)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

浓水排放压力(MPa)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

产水流量(l/h)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

产水压力(Mpa)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

产水电阻率(MΩ。cm)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

回收率(%)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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